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光照对展品的直接损害:热效应与光化学反应

张总    2025-06-11 07:36:49    68次浏览

1. 热辐射导致的物理损伤

风险机制:传统光源(如白炽灯、卤素灯)在发光时会产生大量红外辐射(IR),长期照射可使展品温度升高,导致:

有机质文物(如书画、皮革、纺织品)脱水干裂、纤维脆化;

矿物类文物(如彩绘陶器)因热胀冷缩出现釉面开裂;

含胶黏剂的文物(如漆器、油画)因受热软化导致颜料脱落。

防护措施:

改用低发热光源(如 LED 灯),其红外辐射占比低于 5%,可显著降低热效应;

在光源与展品间加装红外滤光片,阻隔 90% 以上的红外辐射。

2. 紫外线(UV)引发的化学老化

风险机制:紫外线波长较短(100-400nm),能量高,可破坏展品分子结构:

有机材料(纸张、丝绸、动植物标本)的色素分子吸收紫外线后,会发生光氧化反应,导致褪色、泛黄;

金属文物表面的氧化层在紫外线作用下可能加速分解,加剧锈蚀;

染料、颜料中的有机成分(如偶氮染料)遇紫外线易发生分解,导致色彩丧失。

防护措施:

光源需满足紫外线含量<75μW/Lm(国际博物馆协会标准),LED 灯的紫外线辐射可忽略不计;

在展柜玻璃或灯具上粘贴UV 滤光膜,进一步阻隔残余紫外线;

对敏感文物(如古籍、水彩画),限制紫外线暴露量≤5000μW・h/Lm(年度阈值)。

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